액상 억제제 또는 전구체의 조절을 통해 정밀하게 영역 선택적으로 원자층을 증착하는 장치 및 방법

실시예들은 액상 전구체 및 액상 억제제를 저장하는 액상 물질 공급부; 상기 액상 물질 공급부에서 방출된 액상 전구체 또는 액상 억제제의 공급량을 조절하는 액상질량유량제어기; 상기 액상질량유량제어기에서 배출된 액상 전구체 또는 액상 억제제를 유입받아 기화시키는 기화기; 상기 기화기에서 기화된 억제제 또는 전구체가 유입되어 미리 준비된 기판과 접촉 가능한 장소를 제공하는 챔버; 및 상기 기판의 표면에 부착된 전구체와 반응하여 상기 기판에 증착층을 형성하는 반응기체를 상기 챔버로 공급하는 반응기체 공급부를 포함하는 기판에서 억제제 또는 전구체를 선택적 영역으로 증착하기 위한 장치 및 방법에 관련된다.