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출자특허공개검증필요✓ KIPRIS 연동F41H 3/00G01J 5/48H04N 23/23B32B 7/025

유효 방사량 조절 시스템, 열영상 변형 기기 및 열영상 변형 방법

본 발명은 유효 방사량 조절 시스템에 대해 개시한다. 유효 방사량 조절 시스템은, 목적물의 표면 상에 배치되어 상기 목적물로부터 방출되는 유효 열 복사량을 능동적으로 조절하는 유효 방사량 조절 장치를 구비하는 유효 방사량 조절 시스템에 있어서, 상기 목적물 표면 상에 배치되고, 상기 목적물보다 낮은 방사율을 갖는 열복사 스텔스 소자; 및 상기 목적물과 상기 열복사 스텔스 소자 사이에 배치되고, 열에너지를 생성하는 온도 조절 소자;를 포함한다.

특허 도면

특허 정보

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출원번호
1020240099321
📅
출원일
2024.07.26
📋
공개번호
1020260016178
📋
공개일
2026.02.03
🏢
출원인
애즈미 주식회사
📊
상태
공개

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특허 개요

유형출자특허
상태공개
출원인애즈미 주식회사
출원일2024.07.26
공개일2026.02.03
IPCF41H 3/00 | G01J 5/48 | H04N 23/23 | B32B 7/025
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공개번호: 1020260016178